تأثیر غلظت و ضخامت آلاینده آلومینیوم بر خواص ساختاری، اپتیکی و الکتریکی لایه های نازک دی اکسید قلع آلاییده با آلومینیوم

Authors

Abstract:

در این کار تجربی لایه­های نازک دی­اکسید قلع آلاییده با آلومینیوم با ترکیب­های مختلفی از 5 تا 10 درصد جرمی آلومینیوم و 95 تا 90 درصد جرمی دی­اکسید قلع بوسیله تبخیر با باریکه الکترونی بر روی زیرلایه­های شیشه­ای نهشته شدند. سپس تاثیر غلظت آلاینده آلومینیوم و ضخامت بر خواص الکتریکی، اپتیکی و ساختاری این لایه­ها بررسی شد. خواص این لایه­های نازک بوسیله پراش پرتو X، اسپکتروفوتومتر UV- VISو پروب چهارسوزنی بررسی شد. طیفXRD  بدست آمده بر حسب افزایش درصد ناخالصی نشان داد که همه لایه­ها جهت ترجیحی(110) را نشان می­دهند و ساختار بس­بلوری دارند که با افزایش میزان ناخالصی اندازه دانه­ها کاهش یافته، تعداد و شدت پیک­های ظاهر شده کم شده و بلورینگی در این لایه­ها کاهش یافته است. همچنین با افزایش ضخامت لایه­ها، میزان شفافیت لایه­ها و مقاومت ویژه کاهش می­یابند، بنحوی که در مورد لایه­های با 5/7 % جرمی آلومینیوم، مقدار میانگین عبور لایه­ها از مقدار 5/88 % برای نمونه­ای با ضخامت 250 نانومتر به مقدار 3/82 % برای نمونه­ای با ضخامت 450 نانومتر کاهش می­یابد. همچنین مقاومت ویژه به کمترین مقدار خود یعنی  4-10×247/5 اهم- سانتیمتر برای نمونه­ای با ضخامت 450 نانومتر می­رسد.

Upgrade to premium to download articles

Sign up to access the full text

Already have an account?login

similar resources

مقاله پژوهشی: مقایسۀ خواص اپتیکی لایه‌های نانوساختار اکسید روی آلاییده با آلومینیوم AZO و اکسید ایندیوم آلاییده با قلع ITO

در این پژوهش، خواص اپتیکی لایه­نازک اکسید روی آلاییده با آلومینیوم (AZO) و لایه­­نازک اکسید ایندیوم آلاییده با قلع (ITO) بر زیرلایۀ شیشه و زیرلایۀ پلیمری انعطاف­پذیر (پلی­اتیلن) PET بررسی شد. سپس فیلترهای فوق با یکدیگر مقایسه شدند. هدف این پژوهش، به دست آوردن لایۀ بهینه با مقاومت ویژۀ کمینه و شفافیت مناسب در ناحیۀ طول­موج مرئی است. در لایه‌نشانی‌های AZO و ITO، برای افزایش قابلیت عبور، دو نوع پو...

full text

بررسی خواص ساختاری و اپتیکی لایه های نازک اکسید ایندیم قلع

در این تحقیق، لایه های نازک اکسید ایندیم قلع (ITO) به روش تبخیر با پرتو الکترونی بر روی زیرلایه های شیشه ای. با ضخامت‌های اسمی 50، 100، 170 و 250 نانومتر، با نرخ انباشت ثابت 10/0 نانومتر بر ثانیه لایه نشانی شده اند. دمای زیرلایه ها در خلال لایه نشانی در دمای 400 درجه سانتیگراد ثابت نگه داشته شد. از تکنیک های پراش پرتو ایکس (XRD) و بازتاب سنجی اشعه ایکس (XRR) برای آنالیز ساختاری لایه های نازک اس...

full text

تاثیر غلظت آلاینده اکسید قلع بر خواص ساختاری و اپتیکی لایه های نازک اکسید ایندیم تهیه شده به روش تبخیر با باریکه الکترونی

در این کار تجربی لایه های نازک اکسید ایندیم آلاییده با اکسید قلع  (ito) با ترکیب های مختلفی از 60 تا wt%95 اکسید ایندیم و 40 تا wt%5 اکسید قلع با استفاده از روش تبخیر با باریکه الکترونی بر روی زیرلایه های شیشه ای نهشته شدند. لایه ها پس از نهشت، به مدت 3 ساعت در هوا در دمای cْ450 تحت عملیات حرارتی قرار گرفتند. تاثیر غلظت آلاینده اکسید قلع با تغییر غلظت آن از 5 تا wt%40 بر روی خواص ساختاری و اپتیک...

full text

تاثیر غلظت آلاینده اکسید قلع بر خواص ساختاری و اپتیکی لایه‌های نازک اکسید ایندیم تهیه شده به روش تبخیر با باریکه الکترونی

در این کار تجربی لایه‌های نازک اکسید ایندیم آلاییده با اکسید قلع  (ITO) با ترکیب‌های مختلفی از 60 تا wt%95 اکسید ایندیم و 40 تا wt%5 اکسید قلع با استفاده از روش تبخیر با باریکه الکترونی بر روی زیرلایه‌های شیشه‌ای نهشته شدند. لایه‌ها پس از نهشت، به مدت 3 ساعت در هوا در دمای Cْ450 تحت عملیات حرارتی قرار گرفتند. تاثیر غلظت آلاینده اکسید قلع با تغییر غلظت آن از 5 تا wt%40 بر روی خواص ساختاری و اپتیک...

full text

بررسی خواص ساختاری و اپتیکی لایه های نازک اکسید ایندیم قلع

در این تحقیق، لایه های نازک اکسید ایندیم قلع (ito) به روش تبخیر با پرتو الکترونی بر روی زیرلایه های شیشه ای. با ضخامت های اسمی 50، 100، 170 و 250 نانومتر، با نرخ انباشت ثابت 10/0 نانومتر بر ثانیه لایه نشانی شده اند. دمای زیرلایه ها در خلال لایه نشانی در دمای 400 درجه سانتیگراد ثابت نگه داشته شد. از تکنیک های پراش پرتو ایکس (xrd) و بازتاب سنجی اشعه ایکس (xrr) برای آنالیز ساختاری لایه های نازک اس...

full text

My Resources

Save resource for easier access later

Save to my library Already added to my library

{@ msg_add @}


Journal title

volume 14  issue 38

pages  43- 51

publication date 2019-02-20

By following a journal you will be notified via email when a new issue of this journal is published.

Hosted on Doprax cloud platform doprax.com

copyright © 2015-2023