تأثیر غلظت و ضخامت آلاینده آلومینیوم بر خواص ساختاری، اپتیکی و الکتریکی لایه های نازک دی اکسید قلع آلاییده با آلومینیوم
Authors
Abstract:
در این کار تجربی لایههای نازک دیاکسید قلع آلاییده با آلومینیوم با ترکیبهای مختلفی از 5 تا 10 درصد جرمی آلومینیوم و 95 تا 90 درصد جرمی دیاکسید قلع بوسیله تبخیر با باریکه الکترونی بر روی زیرلایههای شیشهای نهشته شدند. سپس تاثیر غلظت آلاینده آلومینیوم و ضخامت بر خواص الکتریکی، اپتیکی و ساختاری این لایهها بررسی شد. خواص این لایههای نازک بوسیله پراش پرتو X، اسپکتروفوتومتر UV- VISو پروب چهارسوزنی بررسی شد. طیفXRD بدست آمده بر حسب افزایش درصد ناخالصی نشان داد که همه لایهها جهت ترجیحی(110) را نشان میدهند و ساختار بسبلوری دارند که با افزایش میزان ناخالصی اندازه دانهها کاهش یافته، تعداد و شدت پیکهای ظاهر شده کم شده و بلورینگی در این لایهها کاهش یافته است. همچنین با افزایش ضخامت لایهها، میزان شفافیت لایهها و مقاومت ویژه کاهش مییابند، بنحوی که در مورد لایههای با 5/7 % جرمی آلومینیوم، مقدار میانگین عبور لایهها از مقدار 5/88 % برای نمونهای با ضخامت 250 نانومتر به مقدار 3/82 % برای نمونهای با ضخامت 450 نانومتر کاهش مییابد. همچنین مقاومت ویژه به کمترین مقدار خود یعنی 4-10×247/5 اهم- سانتیمتر برای نمونهای با ضخامت 450 نانومتر میرسد.
similar resources
مقاله پژوهشی: مقایسۀ خواص اپتیکی لایههای نانوساختار اکسید روی آلاییده با آلومینیوم AZO و اکسید ایندیوم آلاییده با قلع ITO
در این پژوهش، خواص اپتیکی لایهنازک اکسید روی آلاییده با آلومینیوم (AZO) و لایهنازک اکسید ایندیوم آلاییده با قلع (ITO) بر زیرلایۀ شیشه و زیرلایۀ پلیمری انعطافپذیر (پلیاتیلن) PET بررسی شد. سپس فیلترهای فوق با یکدیگر مقایسه شدند. هدف این پژوهش، به دست آوردن لایۀ بهینه با مقاومت ویژۀ کمینه و شفافیت مناسب در ناحیۀ طولموج مرئی است. در لایهنشانیهای AZO و ITO، برای افزایش قابلیت عبور، دو نوع پو...
full textبررسی خواص ساختاری و اپتیکی لایه های نازک اکسید ایندیم قلع
در این تحقیق، لایه های نازک اکسید ایندیم قلع (ITO) به روش تبخیر با پرتو الکترونی بر روی زیرلایه های شیشه ای. با ضخامتهای اسمی 50، 100، 170 و 250 نانومتر، با نرخ انباشت ثابت 10/0 نانومتر بر ثانیه لایه نشانی شده اند. دمای زیرلایه ها در خلال لایه نشانی در دمای 400 درجه سانتیگراد ثابت نگه داشته شد. از تکنیک های پراش پرتو ایکس (XRD) و بازتاب سنجی اشعه ایکس (XRR) برای آنالیز ساختاری لایه های نازک اس...
full textبررسی خواص ساختاری، الکتریکی و اپتیکی لایه های نازک اکسید قلع آلاییده باناخالصی ایندیوم
چکیده ندارد.
15 صفحه اولتاثیر غلظت آلاینده اکسید قلع بر خواص ساختاری و اپتیکی لایه های نازک اکسید ایندیم تهیه شده به روش تبخیر با باریکه الکترونی
در این کار تجربی لایه های نازک اکسید ایندیم آلاییده با اکسید قلع (ito) با ترکیب های مختلفی از 60 تا wt%95 اکسید ایندیم و 40 تا wt%5 اکسید قلع با استفاده از روش تبخیر با باریکه الکترونی بر روی زیرلایه های شیشه ای نهشته شدند. لایه ها پس از نهشت، به مدت 3 ساعت در هوا در دمای cْ450 تحت عملیات حرارتی قرار گرفتند. تاثیر غلظت آلاینده اکسید قلع با تغییر غلظت آن از 5 تا wt%40 بر روی خواص ساختاری و اپتیک...
full textتاثیر غلظت آلاینده اکسید قلع بر خواص ساختاری و اپتیکی لایههای نازک اکسید ایندیم تهیه شده به روش تبخیر با باریکه الکترونی
در این کار تجربی لایههای نازک اکسید ایندیم آلاییده با اکسید قلع (ITO) با ترکیبهای مختلفی از 60 تا wt%95 اکسید ایندیم و 40 تا wt%5 اکسید قلع با استفاده از روش تبخیر با باریکه الکترونی بر روی زیرلایههای شیشهای نهشته شدند. لایهها پس از نهشت، به مدت 3 ساعت در هوا در دمای Cْ450 تحت عملیات حرارتی قرار گرفتند. تاثیر غلظت آلاینده اکسید قلع با تغییر غلظت آن از 5 تا wt%40 بر روی خواص ساختاری و اپتیک...
full textبررسی خواص ساختاری و اپتیکی لایه های نازک اکسید ایندیم قلع
در این تحقیق، لایه های نازک اکسید ایندیم قلع (ito) به روش تبخیر با پرتو الکترونی بر روی زیرلایه های شیشه ای. با ضخامت های اسمی 50، 100، 170 و 250 نانومتر، با نرخ انباشت ثابت 10/0 نانومتر بر ثانیه لایه نشانی شده اند. دمای زیرلایه ها در خلال لایه نشانی در دمای 400 درجه سانتیگراد ثابت نگه داشته شد. از تکنیک های پراش پرتو ایکس (xrd) و بازتاب سنجی اشعه ایکس (xrr) برای آنالیز ساختاری لایه های نازک اس...
full textMy Resources
Journal title
volume 14 issue 38
pages 43- 51
publication date 2019-02-20
By following a journal you will be notified via email when a new issue of this journal is published.
Hosted on Doprax cloud platform doprax.com
copyright © 2015-2023